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硅化钒
- 英文名称:VANADIUM SILICIDE
- cas:12039-87-1
- 发布日期: 2025-05-21
- 更新日期: 2025-11-04
产品详请
| 产地 | |
| 品牌 | |
| 货号 | |
| 用途 | |
| 包装规格 | |
| CAS编号 | |
| 纯度 | % |
| 是否进口 |
中文名称:硅化钒
中文别名:二硅化钒
CAS No:12039-87-1
EINECS号:234-908-5
分子式:Si2V
沸点:°Cat760mmHg
闪光点:°C
密度:4.420
用途:硅化物是制备大规模集成电路的关键材料,用它可以作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线,超大规模集成电路结深很浅,如64 兆位的超大规模集成电路的PN 结深度浅到200nm ,在如此浅结表面用常规的方法制备电极引线,经常导致PN 结穿通,使电路失效,为此则需要制备薄层硅化物,其中硅化钒是一种最好的选择。
安全说明:26-36
中文别名:二硅化钒
CAS No:12039-87-1
EINECS号:234-908-5
分子式:Si2V
沸点:°Cat760mmHg
闪光点:°C
密度:4.420
用途:硅化物是制备大规模集成电路的关键材料,用它可以作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线,超大规模集成电路结深很浅,如64 兆位的超大规模集成电路的PN 结深度浅到200nm ,在如此浅结表面用常规的方法制备电极引线,经常导致PN 结穿通,使电路失效,为此则需要制备薄层硅化物,其中硅化钒是一种最好的选择。
安全说明:26-36
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